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烧结炉

真空箱式炉

小型气氛真空箱式炉

小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型,控温精度高≤0.1℃,温度均匀性好±2℃,温度可达2300℃。占地面积小…
感应式碳化硅烧结炉

感应式碳化硅烧结炉

小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型,控温精度高≤0.1℃,温度均匀性好±2℃,温度可达2300℃。占地面积小…
碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉

碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉

小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型,控温精度高≤0.1℃,温度均匀性好±2℃,温度可达2300℃。占地面积小…
真空裂解炉

真空裂解炉

小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型,控温精度高≤0.1℃,温度均匀性好±2℃,温度可达2300℃。占地面积小…
碳陶复合材料RMI烧结炉

碳陶复合材料RMI烧结炉

在碳陶制作过程中,RMI是将热场加热到2000℃以上,依靠毛细管力使前驱体或者碳原气氛、硅原气氛分子渗入多孔碳预制体中,…
碳化硅反应烧结炉

碳化硅反应烧结炉

小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型,控温精度高≤0.1℃,温度均匀性好±2℃,温度可达2300℃。占地面积小…
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